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Cibles de pulvérisation céramique
Ce matériau est reconnu pour sa grande pureté, sa composition homogène et sa durabilité. Il est largement utilisé dans les procédés de pulvérisation cathodique pour le dépôt de couches minces dans diverses industries, notamment l'électronique, les cellules solaires et la fabrication de semi-conducteurs. Sa pureté et son homogénéité garantissent des propriétés constantes aux couches déposées, ce qui en fait un choix idéal pour les applications exigeant un contrôle précis des caractéristiques des films. Sa durabilité lui permet également de résister aux conditions rigoureuses des procédés de pulvérisation cathodique, assurant ainsi des performances fiables dans le temps.
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Cible de pulvérisation ITO à haute conductivité et transparence pour écrans et cellules solairesLa cible de pulvérisation ITO, un composite d'In2O3 et de SnO2, optimise la conductivité, la transparence et la durabilité des écrans (LCD, OLED, etc.) et des verres spéciaux (conducteurs, isolants thermiques, etc.). -
Cible de pulvérisation d'alumine de haute pureté 99,99 % pour les applications PVD, semi-conducteurs et optiquesCible d'alumine pure à 99,99 %, haute dureté, idéale pour le PVD, améliore l'isolation électrique des semi-conducteurs.
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